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      步進投影無掩模數字光刻機

      2018-08-16 ?791 字號

      技術特征

      ◆采用DMD作為數字化可變掩模,實現投影式無掩模數字化光刻;

      ◆采用積木錯位蠅眼透鏡平滑衍射效應,實現平行均勻照明;

      ◆采用反射式投影技術,實現DMD對圖像灰度、曝光劑量的連續可控;

      ◆采用CCD檢焦系統實現整場調平、自動逐場調焦或自動選場曝光;

      ◆采用計算機分級控制和光柵精密測量技術,實現工件臺精密定位。

       

      主要技術指標

      ● 曝光分辯力:1μm;

      ● 最大曝光基片:100 mm×100mm;

      ● 照明均勻性:±1%;

      ● X、Y、Z、θ四自由度電動位移臺;

      ● X、Y運動定位精度:0.65μm;

      ● Z向運動精度:1μm;

      ● 轉動臺行程:±6°以上。

      單位名稱:中國科學院光電技術研究所

      單位地址:四川成都雙流西航港光電大道1號

      單位網址:www.ioe.ac.cn

      聯系人: 胡松、趙立新     電話/傳真:028-85100564

      移動電話:13981738959      電子信箱:husong@ioe.ac.cn
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